奧林巴斯臨床教學(xué)用光學(xué)顯微鏡CX33是一款面向教育、實(shí)驗(yàn)室和基礎(chǔ)研究的生物顯微鏡。以下是其詳細(xì)介紹：

主要特點(diǎn)

光學(xué)性能優(yōu)秀

優(yōu)良光學(xué)系統(tǒng)：采用 UIS2 無限遠(yuǎn)光學(xué)系統(tǒng)，提供清晰、準(zhǔn)確的成像效果，確保觀察到的樣品圖像細(xì)節(jié)豐富、色彩還原度高。

平場(chǎng)消色差物鏡：標(biāo)配 4X、10X、40X 平場(chǎng)消色差物鏡，可選 20X 和 100X（油鏡），成像清晰，能有效減少畸變和色差，在廣闊的視野下提供高平整度的清晰圖像。

阿貝聚光鏡：數(shù)值孔徑為 1.25，可支持高倍率觀察，配合柯勒照明器，能確保樣品照明均勻，為觀察提供良好的光線條件。

寬視場(chǎng)目鏡：配備標(biāo)準(zhǔn) 10X 目鏡，視場(chǎng)數(shù)為 20，觀測(cè)樣品時(shí)視野更大，可看到更多的細(xì)節(jié)。

照明系統(tǒng)出色：采用透射式柯勒照明器搭配高效 LED 光源，亮度穩(wěn)定，壽命長達(dá) 60,000 小時(shí)，環(huán)保節(jié)能，適合長時(shí)間使用，且在任何亮度條件下色溫均能保持恒定，無需頻繁調(diào)整。

人體工學(xué)設(shè)計(jì)

三目鏡筒：30° 傾斜角度，符合人體工學(xué)，適合長時(shí)間觀察，瞳距調(diào)節(jié)范圍為 48-75mm，適合不同用戶。

操作便捷：將所有調(diào)節(jié)旋鈕都安裝在操作者觸手可及的地方，可實(shí)現(xiàn)單手操作。低位配置的載物臺(tái)，從眼點(diǎn)位置可以廣泛看到載物臺(tái)表面，載物臺(tái)旋鈕與調(diào)焦旋鈕臨近，可同步調(diào)節(jié)。

防霉設(shè)計(jì)：三目觀察筒、目鏡、物鏡都做了抗菌、防霉處理。

結(jié)構(gòu)堅(jiān)固耐用：機(jī)身輕巧但堅(jiān)固，重量約 7.0kg，便于移動(dòng)和使用，機(jī)械結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)耐用，適合頻繁使用。

技術(shù)參數(shù)

觀察方法：明場(chǎng)、暗場(chǎng)。

物鏡配置：4X NA 0.1，工作距離 27.8mm；10X NA 0.25，工作距離 8.0mm；40X NA 0.65，工作距離 0.6mm；可選配 20X 和 100X（油鏡）。

聚焦系統(tǒng)：粗調(diào)限位器和可調(diào)張力的粗調(diào)旋鈕，手柄行程 15mm，細(xì)調(diào)焦旋鈕最小調(diào)節(jié)刻度 2.5μm。

光學(xué)鏡筒：三目設(shè)計(jì)，支持相機(jī)與目鏡同時(shí)使用，光路分配為 100%:0% 或 0%:100%。

載物臺(tái)：尺寸為 211mm×154mm，移動(dòng)范圍 X:76mm，Y:52mm，單切片夾（可選雙切片夾），有標(biāo)本移動(dòng)刻度和 XY 移動(dòng)止動(dòng)裝置。

光源：LED，功率 2.4W（額定值）。

顯微鏡尺寸：211mm×397mm×430mm。

額定電壓 / 電流：AC100-240V 50/60Hz 0.4A。

奧林巴斯臨床教學(xué)用光學(xué)顯微鏡CX33應(yīng)用場(chǎng)景

臨床教學(xué)：在醫(yī)學(xué)院校、醫(yī)學(xué)培訓(xùn)機(jī)構(gòu)等臨床教學(xué)場(chǎng)景中，可供學(xué)生觀察病理切片、細(xì)胞樣本等，幫助學(xué)生直觀地了解人體組織、細(xì)胞的結(jié)構(gòu)和病變特征，輔助教學(xué)講解，提高教學(xué)效果。

臨床診斷：在醫(yī)院的病理科、檢驗(yàn)科等部門，可用于常規(guī)病理切片分析，如觀察血液細(xì)胞形態(tài)、組織切片中的病變細(xì)胞，輔助醫(yī)生進(jìn)行疾病的診斷和分析。

基礎(chǔ)科研：在生物學(xué)、醫(yī)學(xué)等基礎(chǔ)研究領(lǐng)域，可用于觀察細(xì)胞的形態(tài)、結(jié)構(gòu)和生理活動(dòng)，研究細(xì)胞的生長、分裂、分化等過程，也可用于觀察微生物的形態(tài)和結(jié)構(gòu)，進(jìn)行微生物學(xué)研究。

工業(yè)檢測(cè)：可用于一些基礎(chǔ)工業(yè)檢測(cè)工作，如觀察材料的表面結(jié)構(gòu)、微觀缺陷等，為材料的質(zhì)量控制和研發(fā)提供支持。